Zisk překonal očekávání, tržby mírně zaostaly

Nizozemský výrobce čipových zařízení ASML Holding N.V. (ASML) vykázal za třetí čtvrtletí čistý zisk 4,96 miliardy eur. Výsledek překonal konsensus 4,1 miliardy eur, který vycházel z údajů společnosti London Stock Exchange Group (LSEG.L) .

Čisté tržby dosáhly 11,66 miliardy eur, zatímco očekávání činilo 11,72 miliardy eur. Firma současně zpřesnila celoroční prognózu a nyní počítá s čistými tržbami v rozmezí 44 až 45 miliard eur, tedy přibližně 49,3 až 50,4 miliardy dolarů.

Předchozí výhled začínal na 43 miliardách eur, horní hranice zůstala na 45 miliardách eur. ASML už v červenci zvýšila odhad letošních tržeb i hrubé marže v reakci na pokračující poptávku po svých výrobních systémech.

Pro čtvrté čtvrtletí očekává vedení tržby mezi 14,2 a 15,2 miliardy eur. Horní hranice tohoto rozpětí převyšuje konsensus 14,2 miliardy eur. Akcie společnosti od začátku roku podle údajů uvedených ve zdrojovém textu vzrostly o 56 procent.

Výrobní kapacita pro roky 2027 a 2028 nestačí

Generální ředitel Christophe Fouquet uvedl, že zákazníci dále zvyšují krátkodobé a střednědobé odhady potřebného vybavení. Hlavním důvodem jsou jejich představy o rozsahu a délce investic souvisejících s umělou inteligencí.

Část odběratelů má podle Fouqueta natolik dobrou viditelnost budoucí poptávky, že projevuje zájem o objednávky na roky 2029, a dokonce 2030. Současně upozornil, že dodávky plánované na roky 2027 a 2028 nebudou stačit k úplnému pokrytí požadavků zákazníků.

ASML proto prověřuje možnosti dalšího zvýšení výrobní kapacity pro rok 2028. Firma dříve počítala s jejím rozšířením o 30 procent, nyní zkoumá, zda lze výrobu navýšit ještě více.

Společnost má celosvětově výhradní postavení ve výrobě litografických systémů využívajících extrémní ultrafialové záření, označovaných jako EUV. Tato zařízení patří mezi základní nástroje pro produkci nejpokročilejších polovodičů.

Během čtvrtletí se k používání nové generace systémů High NA EUV zavázaly společnosti Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSM) a Samsung Electronics Co., Ltd. (005930.KS) . Technologie High NA pracuje s vyšší numerickou aperturou a představuje nástupnickou generaci současných EUV zařízení ASML.

Podíl Číny má zůstat na 20 procentech

Výrobce ponechal beze změny také odhad čínských tržeb. Prodeje v Číně mají tvořit přibližně 20 procent celkového podnikání společnosti.

ASML vedle EUV systémů dominuje také výrobě zařízení pro hlubokou ultrafialovou litografii, známou pod zkratkou DUV. Ta jsou méně pokročilá než technologie EUV, nadále však hrají významnou roli při výrobě široké škály polovodičů.

Červencová zpráva serveru The Information uvedla, že nejmenovaná čínská společnost začala vyrábět ponorný litografický systém DUV. Informace se odvolávala na osoby obeznámené se situací. Čína v posledních letech rozšiřuje vlastní dodavatelský řetězec pro polovodiče, schopnost tamních výrobců navyšovat produkci domácích systémů DUV však zůstává předmětem pochybností analytiků citovaných ve zdrojovém textu.

Podnikání ASML v Číně současně ovlivňují vývozní omezení. Firma nesmí na čínský trh dodávat své systémy EUV ani některá zařízení DUV. Navzdory těmto restrikcím společnost nadále očekává, že čínský trh bude představovat pětinu jejích celkových tržeb.